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      光學鍍膜橢偏儀

      光學鍍膜橢偏儀

      更新時間:2020-11-10

      訪問次數:892

      簡要描述:

      光學鍍膜橢偏儀ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀,凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的投入,其采用行業前沿的創新技術,包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等??蓱糜诟鞣N各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學納米光柵常數以及一維/二維納米光柵材料結構的表征分析。

      詳細介紹
      產地類別國產

      名   稱:光學鍍膜橢偏儀

      型   號:ME-L

      品   牌:頤光

       

      在手機蓋板中的應用

      光學鍍膜就好比女士化妝,不僅可使玻璃蓋板、背板更漂亮,也可以起到抗氧化、耐酸堿等作用,所以在如今這個“看臉”的時代,蓋板的光學鍍膜是非常重要的,目前常見的包括AR、AF、AG及后蓋顏色膜等鍍膜應用。

       光學鍍膜橢偏儀蓋板光學鍍膜痛點分析

      1、AR膜透過率不合格NG

      2、顏色膜調色困難,周期長。

      3、量產過程產品不穩定,存在色差。

      橢偏儀在光學鍍膜各階段的作用

      造成蓋板光學鍍膜產品不良的主要因素在于:

      A;仿真設計調用材料折射率與鍍膜生產中實際材料折射率不符。

      B;鍍膜設備實際鍍層厚度與膜系設計要求不符。

      C;量產過程對鍍膜設備穩定性/均勻性缺乏有效評估手段。

      橢偏儀可以有效測量修正上述影響因子,為蓋板量產保駕護航。

      1:膜系設計——膜層實際折射率的標定

      ★鍍膜實際折射率的影響因素:供氧量、真空度、電子槍光斑大小、溫度等

      ★橢偏儀可直接測量獲得薄膜材料的光學常數和薄膜厚度,因此通過鍍膜機在Si襯底或玻璃襯底上鍍單層SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜,可直接準確測量獲得薄膜的光學常數。

      ★通過調整鍍膜機參數,以橢偏儀測量獲得的單層SiO2、TiO2、Nb2O5、In薄膜光學常數為反饋,將薄膜材料光學常數調整至狀態。此時對應的鍍膜機參數即為厚度鍍膜時所需設定的終參數。

      2:工藝研發——鍍膜設備tolling校正

      ★通常來說,鍍膜機通過晶振來控制鍍膜厚度,而實際上由于這種晶振式膜厚儀的精度不足,導致實際鍍膜厚度與設定鍍膜厚度存在較大偏差。在鍍膜機中,可通過工具因子(Tooling值)控制鍍膜機的蒸鍍速率,進而可對實際鍍膜厚度進行調控。

      ★橢偏儀可以準確測量獲得薄膜的厚度,因此可用于校正鍍膜機的工具因子(Tooling值),使實際鍍膜厚度與設定鍍膜厚度*。

      3;量產監控——實時監測各項鍍膜指標

      ★鍍膜膜厚是否在設計范圍。

      ★材料折射率有無顯著波動。

      ★透過率是否滿足工藝需求。

      ★色度值是否滿足工藝需求。

      ★反射率是否滿足工藝需求。

       

      售后服務:

      1、廠家貨源正品

         貨源有保障,可以根據客戶不同測試需求,提供不同測試方案。

      2、關于售后

         4小時電話響應,24小時內安排上門服務。終生維護。

      3、關于發貨

         到款4-5天內到貨,江蘇、深圳區域第二天可以到貨。

       


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